PRODUCT
반도체 제조 공정에서 사용되는 Precursor를
Carrier Gas를 이용하여 일정한 압력으로
Main System 공정설비까지 안정적이고 지속적인
공급을 하는 장치
시스템 특징
- PLC 제어를 통한 전자동 시스템
- Touch Monitor를 이용한 사용자 시인성 확보 및 조작이 편리
- Precursor 특성에 따른 안전장치 설치(가스, 불꽃, 연기, 온도 등)
- 조작 방지를 위한 interlock 기능
- 시스템 Error 및 Alarm 이력관리 기능
- 공정설비와의 통신 기능 지원
- 방폭 인증 제품
- 내장 소화기 설치 가능
UCHEM T-50
항목 | 설명서 |
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모델명 | T-50(LDS) |
리필방식 | Bulk to Process, 외부공급장치 |
장비크기 | 750(W) x 750(D) x 2,000(H) |
공급라인 | 최대 4 Stick |
잔량관리 | Weight Scale, Ultrasonic Sensor |
적용가스 | TEOS, HCDS, SP-6, LTO520, OMCTS, 3DMAS, TiCI4등 |
저장소용량 | 2~38L |
3CHEM T-50
항목 | 설명서 |
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모델명 | 3CHEM T-50 (LDS) |
리필/공급방식 | Bulk to Process, 외부 or 대용량 공급장치 / 1Process Supply |
장비크기 | 1,300(W) x 700(D) x 2,080(H) |
공급라인 | 3~12 Stick |
잔량관리 | Weight Scale, Ultrasonic Sensor |
적용가스 | TEOS, TEB, TEPO 등 |
저장소용량 | 2L~19L |