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ARS
반도체 제조 공정에서 사용되는 Precursor를 Carrier Gas를 이용하여
일정한 압력으로 Main System 공정설비까지 안정적이고 지속적인 공급을 하는 장치
반도체 제조 공정에서 사용되는 Precursor를
Carrier Gas를 이용하여 일정한 압력으로
Main System 공정설비까지 안정적이고 지속적인
공급을 하는 장치
시스템 특징
- PLC 제어를 통한 전자동 시스템
- Touch Monitor를 이용한 사용자 시인성 확보 및 조작이 편리
- Precursor 특성에 따른 안전장치 설치(가스, 불꽃, 연기, 온도 등)
- 조작 방지를 위한 interlock 기능
- 시스템 Error 및 Alarm 이력관리 기능
- 공정설비와의 통신 기능 지원
- 방폭 인증 제품
- 내장 소화기 설치 가능
UCHEM T-70
1,250(W) x 700(D) x 2,000(H)
TEMAHf, TEMAZr, TMA, HBO, TEB등
UCHEM T-80
1,090(W) x 780(D) x 2,030(H)
ACP-2, ZAC, TMA, SSP, HBO, TEB 등
UCHEM T-80 (one process)
ACP-2, ZAC, TMA, SSP, HBO, TEA 등